佳能发布 KrF 半导体光刻机 FPA-6400ES6a，宣称实现高生产率和业界高水平套刻精度

IT之家 11 月 11 日消息，11 月 10 日，佳能在日本东京宣布，将于 2026 年 12 月上旬发售面向存储和逻辑芯片的 KrF（IT之家注：氟化氪）扫描式半导体光刻机“FPA-6400ES6a”。 ▲ KrF 扫描式半导体光刻机“FPA-6400ES6a” 官方表示，通过新开发的超高加速度载台缩短驱动时间，这款 KrF 扫描式半导体光刻机新产品具备 每小时 400 片晶圆的高产能 ；同时新开发了即使在高速驱动时也能进行稳定高精度位置控制的震动抑制技术，以及降低设备内气流不均匀、使激光光路温度均一化的空调控制技术，从而实现 业界 高水平的 4.0nm 套刻精度 。 此外，在佳能独有的…