我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相

IT之家 11 月 8 日消息，第九届中国国际进口博览会于 11 月 5 日在国家会展中心（上海）开幕。 本次展会上，上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称 SMEE）携自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型正式亮相， 展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果 。 据介绍，SMEE 成立于 2002 年， 是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商 ，也是我国前道光刻装备自主供给体系的核心支撑主体。 本次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配 I-line、KrF 两类主流技术路线，整机核心的高精度物…