英特尔 CTO 称其与台积电制程技术差距小于 10%，但产能追赶仍需时间

IT之家 10 月 24 日消息，当地时间 10 月 22 日，Dwarkesh Patel 放出了一段针对英特尔首席技术官普什卡尔 · 拉纳德（Pushkar Ranade）的采访视频。 拉纳德表示，从制程技术角度来看，英特尔与台积电之间的差距已经缩小至几个百分点，但追赶台积电的制造规模仍将是一个缓慢的过程。他强调，相比单纯追求性能或芯片面积密度上的小幅领先，按时推进制程、提高良率并快速扩大产能更为重要。 他指出，台积电目前的晶圆制造规模明显大于英特尔，双方的竞争不仅涉及技术指标，还取决于能否稳定生产大量先进芯片。他表示，如果只讨论技术水平，英特尔已经接近台积电，但性能、功耗和面积密度等指标…